[无锡]，[2026年7月]
近日，Getek奇绎正式向国内功率器件领域领军企业提供分子过滤产品，为其相关生产环境提供气态分子污染控制支持。
此次供货进一步拓展了Getek奇绎在功率半导体领域的应用实践，也体现了本土化分子过滤产品在中国半导体制造环境中的应用价值。
功率半导体制造同样需要稳定的洁净环境
功率器件制造涉及光刻、扩散、薄膜、刻蚀、清洗等多个工艺环节，对生产环境的颗粒、化学污染物及工艺稳定性具有较高要求。
在复杂的生产环境中，空气中的酸性、碱性及有机气态污染物可能进入洁净室及关键工艺区域，并对产品表面、工艺材料和设备环境产生潜在影响。
因此，除颗粒污染控制外，针对AMC的持续监测和有效去除也越来越受到半导体制造企业的重视。

针对目标污染物，提供更精准的过滤方案
Getek奇绎化学过滤产品采用针对不同污染物特性配置的吸附材料，可应用于MAU、FFU、RCU及工艺设备等不同场景。
根据实际应用需求，Getek奇绎可针对：
酸性气体｜碱性气体｜VOC及其他有机污染物
提供相应的分子过滤解决方案。
同时，依托本地检测与分析能力，公司能够围绕滤材吸附性能、释气、压损等指标开展相关测试，为客户的产品选型与应用验证提供数据支持。

从本土制造到本地服务
对于功率半导体等成熟量产型制造企业而言，稳定的产品供应、持续一致的质量以及快速的技术响应同样重要。
Getek奇绎依托无锡本地研发制造与检测体系，在保持技术标准一致性的同时，进一步提升产品交付和技术服务的响应效率。
此次正式供货，是Getek奇绎在功率半导体领域的重要应用进展。
未来，公司将持续深入中国半导体产业链，围绕晶圆制造、功率器件、先进封装等不同应用场景，持续完善空气过滤与AMC分子污染控制产品及服务体系。
以技术为基础，以本地化服务为支撑，Getek奇绎将持续为中国半导体产业提供更加可靠的微污染控制解决方案。