随着半导体制造工艺持续演进，先进制程及关键工艺设备对颗粒污染与气态分子污染物（AMC）的控制提出了更高要求。设备内部的空气洁净度不仅影响关键工艺环境的稳定性，也关系到晶圆制造、先进封装等环节的产品质量与良率。

在此背景下，Getek奇绎亮相工博会（国芯展），重点展示面向半导体设备端的超高效空气过滤与化学过滤解决方案，以针对性的过滤技术和污染控制能力，回应先进制造设备对洁净环境的更高要求。

聚焦设备端，完善关键工艺环境的污染控制

在半导体制造过程中，颗粒物与气态分子污染物具有不同的污染机制，需要采用相应的技术手段进行控制。

超高效空气过滤器主要用于拦截空气中的微细颗粒，降低颗粒物进入关键工艺区域的风险；化学过滤器则通过功能性吸附材料去除特定气态分子污染物，针对酸性、碱性及挥发性有机化合物（VOC）等目标污染物提供控制方案。

两类过滤技术相互补充，共同构建设备端更完整的空气污染控制体系。

围绕半导体设备对洁净度、空间适配及运行稳定性的需求，Getek奇绎此次重点呈现以下两类产品解决方案。

超高效空气过滤：控制微细颗粒污染

针对半导体设备内部空间紧凑、颗粒控制要求严格等特点，Getek奇绎提供面向设备端应用的超高效空气过滤产品。

通过高性能滤材与过滤结构设计，产品可针对设备的目标过滤效率、额定风量、初始阻力及安装空间进行选型与配置，帮助设备制造商构建符合工艺需求的局部洁净环境。

高效颗粒拦截： 面向微细颗粒控制需求，根据目标效率等级提供相应过滤方案。

低阻力设计： 兼顾过滤性能与气流组织，降低过滤单元对设备风量及运行能耗的影响。

紧凑化适配： 根据设备结构、安装尺寸及气流条件进行产品选型，满足不同设备的集成需求。

性能验证支持： 结合相应测试方法与产品技术参数，为设备端过滤应用提供性能验证依据。

化学过滤：针对性控制气态分子污染物

除颗粒污染外，酸、碱及VOC等气态分子污染物同样可能影响半导体设备内部的工艺环境。针对不同污染物的化学特性及控制目标，需要匹配相应的吸附材料、过滤结构与运行条件。

Getek奇绎围绕设备端AMC控制需求，提供多种结构形式的化学过滤产品，并可根据目标污染物、设备风量及安装条件进行针对性配置。

目标污染物控制： 针对酸性、碱性及VOC等不同污染物，匹配相应的吸附材料与过滤方案。

多样化结构选择： 根据设备空间、气流条件及安装方式，选择适配的化学过滤产品。

滤料定向配置： 结合目标污染物特征及实际应用需求，优化吸附材料组合。

性能测试支持： 通过相关实验室测试，对吸附性能、压损等关键指标进行评估，为产品选型及应用验证提供依据。

通过超高效空气过滤与化学过滤的协同应用，Getek奇绎致力于帮助客户从颗粒物和气态分子污染物两个维度完善设备端污染控制方案。

以过滤技术与本土化服务，响应先进制造需求

源自中国台湾的Getek，长期专注于AMC分子过滤与高端空气过滤技术。围绕中国大陆市场需求，Getek奇绎持续推进本土化研发、制造、测试及技术服务能力建设，并致力于将产品技术与客户的实际应用需求相结合。

从过滤材料选择、产品结构设计，到关键性能测试与应用支持，Getek奇绎关注的不仅是过滤器本身的性能，更是产品在具体设备和工艺环境中的适配性与稳定性。

此次亮相工博会（国芯展），是Getek奇绎面向半导体设备端应用展示产品与技术能力的一次交流。未来，Getek奇绎将持续围绕超高效空气过滤、AMC分子污染控制及相关测试服务，深化设备端应用布局，为半导体及其他高科技制造领域提供更具针对性的过滤解决方案。

Getek奇绎，以过滤技术助力关键工艺环境的精准控制。