无锡，[2026年9月]
第十四届无锡半导体设备展在[无锡太湖博览中心]举行。作为专注于空气过滤与分子污染控制的品牌，Getek奇绎携化学过滤器、HEPA/ULPA高效过滤产品亮相展会，与来自半导体产业链的客户、设备商及行业伙伴展开交流。

聚焦半导体微污染控制需求
随着中国半导体产业持续扩产，晶圆制造企业对洁净环境的要求不断提高。
除了传统的颗粒控制之外，酸性、碱性及有机气态污染物（AMC）对光刻、蚀刻、薄膜、量测等关键工艺的潜在影响，也使分子污染控制成为先进制造环境的重要组成部分。
本次展会上，Getek奇绎重点展示了面向半导体制造环境的化学过滤产品，覆盖MAU、FFU、RCU及Process等典型应用场景。

展示“产品+检测”的完整能力
与单一过滤产品展示不同，Getek奇绎此次重点呈现了从污染识别到过滤控制的完整技术路径。
围绕客户实际需求，公司可提供：

• AMC采样与分析
• 识别污染物类型及浓度，为污染控制提供数据依据。
• 滤材及过滤器性能检测
• 通过吸附性能、释气、压损等相关测试，为产品选型及应用验证提供支持。

化学过滤解决方案
针对不同污染物及应用场景匹配相应的吸附材料和过滤器结构。
通过“检测—分析—选型—控制—验证”的技术路径，Getek奇绎希望帮助客户从单纯更换过滤器，进一步走向更加科学、精准的微污染控制。

深耕中国，服务半导体产业
此次参加第十四届无锡半导体设备展，是Getek奇绎在本土市场持续深化布局的重要一步。
依托无锡本地研发、制造和检测能力，Getek奇绎将持续加强与晶圆制造企业、半导体设备企业及产业链伙伴的交流合作，推动高端分子过滤技术在中国半导体产业中的本土化应用。
未来，Getek奇绎将持续聚焦微污染控制，以稳定的产品、专业的技术和快速的本地服务，为中国半导体制造提供更加可靠的空气过滤与AMC控制解决方案。