[无锡]，[2026年9月]

近日，Getek奇绎宣布正式向国内12英寸晶圆制造企业提供分子过滤产品，用于其相关生产环境的空气与气态分子污染控制。
此次供货，是Getek奇绎在中国大陆半导体市场取得的又一重要进展，也标志着公司本土化制造的分子过滤产品进一步进入12英寸晶圆制造应用场景。

先进制程，对微污染控制提出更高要求
随着晶圆制造向更先进制程发展，洁净环境控制已从传统的颗粒过滤进一步延伸至气态分子污染物（AMC）的精准控制。
酸性、碱性及有机等气态污染物，即使处于极低浓度，也可能对光刻材料、晶圆表面及工艺设备产生影响。因此，在MAU、FFU、RCU以及关键工艺设备等不同空气环境中建立针对性的AMC控制体系，成为先进晶圆制造的重要环节。
Getek奇绎长期专注于分子污染控制，并针对半导体制造环境开发不同结构及吸附材料的化学过滤产品，可根据目标污染物、风量、压损及安装空间等条件提供相应产品方案。

从产品验证到稳定供货
此次正式供货过程中，Getek奇绎围绕客户实际应用需求，从产品性能、材料选择、产品制造及质量控制等环节进行匹配，为客户提供符合应用要求的泡棉式化学过滤产品。
依托无锡本地制造及检测能力，Getek奇绎能够进一步缩短供应链响应周期，并根据客户不同工艺及现场条件提供更加灵活的技术支持。
对于高科技制造企业而言，过滤产品不仅需要满足初始性能要求，更需要在长期运行过程中保持稳定、可靠的一致性。
Getek奇绎将持续通过标准化制造、过程质量控制和性能检测，提升产品供应的稳定性与可追溯性。

持续深耕中国半导体市场
此次正式供货，是Getek奇绎本土化战略在12英寸晶圆制造领域的进一步落地。
未来，Getek奇绎将持续围绕半导体制造中的MAU、FFU、RCU、Process及关键微环境等应用场景，完善从AMC检测、污染分析到化学过滤控制的产品与服务能力，为中国晶圆制造企业提供更加专业、快速和可靠的微污染控制解决方案。