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随着内外部AMC污染源数量的激增，半导体制造工艺已发展出多层污染控制体系。
典型晶圆厂会在MAU、FFU位置安装AMC过滤器。 但随着制程线宽持续微缩至纳米级，设备Tools内部产生的气态分子污染物（AMC）对制程的潜在威胁日益加剧。
为此，Getek针对各种半导体生产中所产生的AMC，提供有效过滤的完整解决方案。
设备制程Tools解决方案
Getek针对半导体设备制程需求，设计出一系列高效能化学过滤器，可广泛应用于各类先进设备设备，提供灵活且高适应性的AMC微污染控制解决方案。
多样化产品设计：依据不同制程条件及设备结构，量身开发各式专用过滤器，灵活支持定制化需求。
高效去除：有效过滤酸性、碱性、有机等多类型分子污染物，确保制程环境洁净稳定。
良率保障：协助设备运作环境达到最高洁净标准，降低微污染导致的不良率风险。
厂务系统FFU解决方案
风机滤网机组（ FFU）是洁净室室空气供应系统中的关键设备，结合送风机与高效过滤器功能，负责将洁净气流均匀送入室内，并维持洁净室的正压环境。
Getek针对FFU应用需求，提供高效且灵活的微污染控制解决方案。
厂务系统MAU解决方案
MAU是洁净室循环系统处理新风的核心，直接左右环境、效率与良率，堪称“第一道防线”。
我们针对 MAU 特性，提供传统及可替换式V 型、箱型、平板型、单凸法兰型化学过滤器及大风量V型高效过滤器选项，灵活适配各类 MAU 设计规格。
