半导体制造对洁净环境的要求极为严苛。
随着制程节点持续缩小，颗粒污染之外，酸性气体、碱性气体、VOC及其他AMC污染对晶圆、光刻材料、光罩及关键工艺设备的影响更加突出。

对于先进制程，空气过滤不只是“过滤颗粒”，而是需要针对不同区域、不同制程和不同污染物，建立完整的污染控制体系。

Getek围绕半导体洁净厂房及工艺设备，构建颗粒过滤 + AMC分子过滤 + 检测分析的综合解决方案。

洁净室空气过滤
通过预过滤、中效过滤及HEPA/ULPA高效过滤，逐级降低空气中的颗粒物，为洁净室、FFU及关键工艺区域提供稳定的洁净空气。

厂务端AMC控制
针对酸性、碱性及有机类分子污染物，配置不同吸附介质的化学过滤器，用于MAU、AHU及循环风系统，降低洁净室整体AMC浓度。

机台端AMC控制
针对光刻、量测、沉积、蚀刻等关键设备以及Mini Environment等局部环境，采用设备侧化学过滤器，对污染源进行更靠近工艺端的控制。

关键区域精细化过滤
根据不同制程区域的颗粒及AMC控制需求，选择平板式、抽拉式、箱式、V型等不同结构的化学过滤器，以及不同规格的HEPA/ULPA过滤器。

AMC检测与分析
结合AMC采样、滤材吸附能力、滤网吸附效能、有机/无机释气等检测能力，为污染源识别、滤材选择、过滤器性能评价及更换周期优化提供数据支持。