新型显示

控制微污染,保障精密制造。

面向OLED、LCD及高世代显示产线的洁净空气控制。新型显示制造具有洁净空间巨大、空气处理量高、工艺复杂、污染物种类多等特点。随着显示分辨率不断提高,对颗粒物及分子污染的控制要求也持续提升;同时,OLED、LCD等制造过程中使用的溶剂及化学品,也对空气过滤与污染控制提出了更高要求。

Getek针对显示面板制造环境,提供覆盖MAU/AHU、洁净室循环风系统及关键工艺区域的过滤解决方案。

大风量空气预过滤

通过预过滤及中效过滤降低进入空调系统的颗粒负荷,保护后端高效过滤器,并兼顾系统运行效率。

洁净室高效过滤

采用HEPA/ULPA高效过滤器,为洁净室及关键生产区域提供稳定的颗粒控制能力。

工艺区域AMC控制

针对光刻、涂布、显影、清洗等环节可能产生的酸性、碱性及有机分子污染物,配置相应的化学过滤器,降低分子污染对产品表面及工艺过程的影响。

设备端局部污染控制

对于污染风险较高的工艺设备,可通过设备侧化学过滤器进行局部控制,减少污染物进入关键生产区域。

过滤系统检测与优化

通过滤材及过滤器吸附性能、释气、压损等测试,为过滤器选型及运行维护提供数据支持。

按解决方案筛选
平板密褶式化学过滤器
采用平板式结构设计,可根据安装高度及空间要求提供不同厚度和尺寸方案。适用于HEPA/ULPA上游、洁净室FFU、微环境及机台等场景。

无框泡棉化学过滤器
采用Getek自主开发的功能泡棉滤材,不配置传统刚性框架,可根据设备及现场空间直接定制,适用于空间受限及特殊形状的AMC污染控制。

V型密褶式化学过滤器
采用多V型密褶结构,通过增加有效滤材面积,在有限安装空间内实现较高的气态污染物吸附能力。可根据目标污染物选择不同功能滤材,适用于MAU、RCU等洁净空气系统。

V型替换式化学过滤器
采用V型结构与可替换滤芯设计,在保持较大过滤面积的同时,可重复使用过滤器框架,适用于需要周期性更换化学滤材的洁净空气系统。

箱型密褶式化学过滤器
采用大面积密褶滤材与箱型框架结构,在较大风量条件下提供稳定的AMC污染控制能力,适用于MAU、RCU、FFU及其他空气处理系统。

抽取式化学过滤器
抽取式拆装设计,现场更换滤材操作简便。可根据目标污染物选择不同功能滤材,适用于FFU及工艺设备等狭小安装空间。

平板型泡棉化学过滤器
采用高性能泡棉滤材及薄型平板结构,兼顾吸附性能、低压损和安装空间要求,适用于FFU、微环境及设备端等空间受限应用

V型泡棉化学过滤器
采用V型泡棉滤材结构,在有限空间内增加有效滤材面积,兼顾较低压损与气态污染物吸附性能,适用于MAU及AHU端AMC控制。

V型替换式泡棉化学过滤器
采用V型泡棉滤材与可重复使用框架组合,在提供较大滤材面积和吸附容量的同时,实现滤材快速替换,适用于持续运行的洁净环境。

圆筒填充式化学过滤器
采用模块化填充式结构,可根据目标气体选择不同吸附材料,用于较高污染负荷及较大风量条件下的气态污染控制,适用于MAU及其他空气处理系统。

再生型泡棉化学过滤器
采用Getek再生型泡棉及可重复使用框架,通过滤材再生实现过滤器循环使用,在保持污染控制性能的同时减少过滤器废弃物

碳匣填充式化学过滤器
用模块化碳匣结构,通过填充不同类型的颗粒状吸附材料,实现对VOC、酸、碱及其他气态污染物的针对性控制。

滤筒填充式化学过滤器
散填薄炭层筒式分子过滤器,适用于中等浓度分子污染物工况,可应用于新风、回风以及排风系统。产品具备极低泄漏率。

板式玻纤高效过滤器
采用高性能超细玻璃纤维滤材与坚固框架结构,通过深层过滤机制高效捕集空气中的颗粒物,具有过滤效率高、运行稳定、适用范围广等特点。适用于洁净室、医院、制药、电子制造及一般工业空气净化系统。

板式PTFE高效过滤器
采用高性能PTFE膜滤材,通过膜过滤机制实现高效颗粒物捕集,在保持高过滤效率的同时具有较低运行阻力。产品具有耐湿、低释尘及高洁净度等特点,适用于对空气洁净度和能耗要求较高的洁净环境。

有隔板箱式高效过滤器
采用大面积超细玻璃纤维滤材与箱型框架结构,通过增加滤材面积实现较大的空气处理能力,兼顾高过滤效率与稳定运行性能。适用于MAU、AHU、洁净空调系统及大型空气处理设备。

V型高效过滤器
采用V型多褶结构与超细玻璃纤维滤材,在有限安装空间内提供更大的有效过滤面积,实现高效颗粒物过滤与较低运行阻力。适用于MAU、AHU、FFU及各类洁净空气处理系统。

中效袋式过滤器
玻璃纤维袋式过滤器将超细玻璃纤维滤材与高强度袋状结构结合,适用于中高效率空气净化。其独特的袋子设计显著增加了过滤面积,有效捕捉大于0.5微米的灰尘、花粉、霉菌孢子和工业颗粒物。

EFU设备用风机过滤机组
EFU(Equipment Fan Filter Unit)是专为半导体制造设备及高精密工业环境设计的微型化空气净化模块。作为洁净室末端净化关键组件,可直接集成于生产设备内部或上方,为晶圆加工、光刻、蚀刻等核心工艺提供局部 ISO Class6 甚至 ISO Class1 高纯洁净气流保护,有效隔离微尘污染,提升产品良率。